一机搞定成像+元素分析！质控失效分析神器｜TESCAN MIRA 场发射扫描电镜 1.0nm分辨率 集成EDS

TESCAN MIRA 是一款高性能分析型场发射扫描电镜，配备高亮度肖特基热场发射电子枪，在 Essence™ 软件同一窗口中实现 SEM 成像和实时 EDS 元素分析。捷克原装进口，二次电子分辨率达 1.0nm@30kV，放大倍数 2-100万倍，是质量控制、失效分析和实验室常规材料检测的高效分析平台。

Essence™ EDS 集成分析平台，同一窗口成像+元素分析一键切换，无需来回切软件；In-Flight Beam Tracing™ + Intermediate Lens™ 中间镜，大束流下仍保持高分辨，设定束流与真实作用束流一致；Wide Field Optics™ 大视野光路，最低放大倍率 2倍，无需额外光学导航相机即可精确定位样品；SingleVac™ 模式，不导电/束流敏感样品无需喷镀直接观察；可选镜筒内 SE/BSE 探测器 + 电子束减速技术（BDT），低电压下分辨率提升至 1.8nm@1keV。

广泛应用于材料科学（金属/陶瓷/聚合物/复合材料亚微米分析）、工业质控（抛光面/截面/断口检测，缺陷夹杂物污染物识别）、失效分析与微电子（封装/引线键合/互连/晶圆级评估）及生命科学超微结构观察。模块化扩展平台支持 EDS/EBSD/CL/Raman/STEM/WDS 多模态联用；Essence™ 3D 防碰撞模型保护探测器安全；直观模块化软件支持 Python 脚本自动化，不同技术水平用户均可轻松操作。